Китай инвестирует 37 миллиардов евро в разработку отечественных систем литографии EUV

• Китай инвестирует 37 миллиардов евро в разработку отечественных систем EUV-литографии.  

• EUV-литография необходима для производства инновационных полупроводниковых приборов.  

• ASML является единственным производителем EUV-систем.  

• Доступ к этим машинам ограничен, что оказывает политическое и экономическое влияние.  

• EUV-излучение генерируется за счет воздействия на микроскопические капли олова.  

• Процесс происходит в вакууме и требует специальной оптики.  

• Фоторезисты должны быть точно настроены для минимизации дефектов.  

• EUV позволяет производить более компактные, быстрые и энергоэффективные чипы.  

• EUV необходим для сложных логических узлов, таких как процессоры и графические процессоры.  

• ASML разработала технологию с высокой числовой апертурой (NA), увеличивающую плотность размещения транзисторов.  

• Huawei и SMEE подали заявки на патенты для новых источников света EUV.  

• Харбинский технологический институт предложил альтернативный подход к генерированию EUV-излучения.  

• Китай сталкивается с трудностями в преодолении монополии ASML.  

• Для создания полноценной литографической машины требуются высокоточные компоненты.  

• Китай продолжает инвестировать в разработку EUV-литографии, несмотря на трудности.  

• Глобальная гонка за полупроводниками далека от завершения.